使用QCM-D用于CMP清洁应用188金宝搏app安卓下载
在化学机械平坦化（CMP）和CMP清洁后使用了几种不同的浆料和衬底材料。随着半导体行业的不断变化的需求，从基本的角度来看，这些材料是如何互动的重要意义。那就是哪里Quartz Crystal Microbalance耗散（QCM-D）可以帮助。QCM-D可用于了解不同的浆料组分在实时化学相互作用与特定基底材料。
使用苯并三唑（BTA）作为浆料制剂中Cu互连的腐蚀抑制剂，用QCM-D进行实时监测的一个例子。QCM-D可用于量化将吸附到Cu表面上的BTA的量。另外，可以量化通过乙酰羟基烷酸（AHA）作为后CMP清洁步骤除去BTA。另外，二氧化硅或二氧化硅颗粒通常用于介电CMP浆料制剂中，并且它们的表面质量负载和随后通过清洁的去除可以通过QCM-D量化。
加入纳米科技仪器Matthew Dixon博士，因为英超利物浦足球俱乐部他在QCM-D理论上提供了QCM-D理论以及如何用于量化与CMP应用相关的过程。188金宝搏app安卓下载
在演示期间：- 了解QCM-D技术的工作原理。
- 发现可用的不同配置。
- 进入有关集成电路设计中CMP相关的特定应用示例的洞察力。
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